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有白头发染什么颜色好,有白头发染什么颜色好看 半导体突发!中国出手:停止采购!

  大家好,来看(kàn)一则突发消(xiāo)息。

  美光公司在(zài)华(huá)销售的产品未通过网络安全(quán)审查(chá)

  据网信办(bàn)消息,日前,网络安全审查(chá)办公室依法对美光(guāng)公(gōng)司在华销售产品进行了网络安全审查。

  审查发现,美光公司产(chǎn)品存(cún)在较严重网(wǎng)络安(ān)全问题隐患,对我国关键信息基(jī)础(chǔ)设施供应链造成(chéng)重(zhòng)大安全风险,影响我国国家安(ān)全(quán)。为此(cǐ),网络安全审查办公室依法作出(chū)不(bù)予通过网络安(ān)全审(shěn)查的(de)结论(lùn)。按(àn)照(zhào)《网络安全法》等法律(lǜ)法规,我国(guó)内关键信息基础设施的运营者应停止采(cǎi)购美光公司产品。

  此次对美光公司产品(pǐn)进行网络安全审(shěn)查,目的(de)是防(fáng)范产品网络安全问题危害国家关(guān)键信息基础设施安全,是维护国家安全的(de)必(bì)要措施。中国坚定推进高水平对外开放(fàng),只(zhǐ)要遵(zūn)守中国法律(lǜ)法(fǎ)规要求,欢(huān)迎(yíng)各(gè)国企业、各(gè)类平台产品服务进(jìn)入中国(guó)市场。

  半导体(tǐ)突发(fā)!中(zhōng)国出手:停止采购(gòu)!

  3月31日,中(zhōng)国网(wǎng)信网发文称,为(wèi)保障关键信息(xī)基础设施供(gōng)应链安全,防范产品问题隐患造(zào)成网络安全(quán)风险,维护国(guó)家(jiā)安全,依据《中(zhōng)华人民共(gòng)和国(guó)国家安全(quán)法》《中华人民(mín)共和(hé)国网(wǎng)络(luò)安全法》,网(wǎng)络安全审(shěn)查办公室按照《网络安(ān)全审(shěn)查办法》,对美光公司(Micron)在华销售的(de)产(chǎn)品实(shí)施网络安全审(shěn)查。

  半导(dǎo)体突发!中国出手:停止采购(gòu)!

  美(měi)光是美国的存储芯片行业(yè)龙(lóng)头,也是全球存(cún)储芯片巨头之一,2022年收入来自中国市场收入(rù)从此(cǐ)前高峰57%降至(zhì)2022年约11%。根据(jù)市场咨询机(jī)构(gòu) Omdia(IHS Markit)统计,2021 年三星电子、 铠侠、西部(bù)数(shù)据、SK 海力(lì)士、美光有白头发染什么颜色好,有白头发染什么颜色好看、Solidigm 在全球 NAND Flash (闪存)市场份(fèn)额约为 96.76%,三星电子、 SK 海力士、美光在全球 DRAM (内存)市场份额约为 94.35%。

  A股上市公司中,江(jiāng)波龙(lóng)、佰维存储等公司(sī)披露过美光等国际存(cún)储厂商(shāng)为公司供应(yīng)商。

  美(měi)光在江波(bō)龙采购占(zhàn)比(bǐ)已(yǐ)经显著下降,至少已(yǐ)经不(bù)是主要大(dà)供应(yīng)商。

  公(gōng)告显(xiǎn)示, 2021年美光位列(liè)江波龙第一(yī)大(dà)存储晶(jīng)圆供(gōng)应商,采购约31亿元,占比33.52%;2022年,江波龙第(dì)一大(dà)、第二大和第三大供应商采购金额占比(bǐ)分(fēn)别是26.28%、22.85%和5.76%。

  目前江波龙已经在(zài)存储产业链上(shàng)下游建(jiàn)立国内外(wài)广泛合作。2022年(nián)年报显示,江(jiāng)波龙与三星(xīng)、美光、西部数据等主要存储晶(jīng)圆原厂(chǎng)签(qiān)署了(le)长期合约,确保存储(chǔ)晶(jīng)圆供应的稳定(dìng)性,巩固公司在下游市场的供应优势,公司也与国内(nèi)国(guó)产存储晶圆原厂武汉(hàn)长(zhǎng)江存储、合肥(féi)长鑫保持良好的合作。

  有券商此(cǐ)前就(jiù)分析,如果(guǒ)美光在(zài)中国(guó)区(qū)销售受到限制,或将导致下游客户转(zhuǎn)而采购有白头发染什么颜色好,有白头发染什么颜色好看国外三(sān)星、 SK海力士,国内长江(jiāng)存储(chǔ)、长鑫存储等竞对产品

  分析称(chēng),长存、长鑫的(de)上游设备(bèi)厂(chǎng)或从(cóng)中受(shòu)益。存储器(qì)的生产已经演进到(dào)1Xnm、1Ynm甚至1Znm的工艺(yì)。另(lìng)外NAND Flash现在已经进入3D NAND时(shí)代,2 维到3维的结构转变使刻(kè)蚀和薄膜成为(wèi)最关键、最大(dà)量的加工设备(bèi)。3D NAND每层均需要经(jīng)过薄膜沉积工艺步骤,同时刻蚀目前前沿要刻到 60:1的深孔,未来可能会更深的(de)孔或者沟槽,催生(shēng)更(gèng)多设备需求。据东(dōng)京电子披露,薄膜沉积设备及(jí)刻蚀占3D NAND产线(xiàn)资本开(kāi)支合计为(wèi)75%。自长(zhǎng)江存储被加入美(měi)国限制名(míng)单,设(shè)备国(guó)产化进(jìn)程加(jiā)速,看好拓荆科技(jì)(薄膜沉积)等(děng)相关公司份额提升,以及存储(chǔ)业(yè)务占比较高的华(huá)海清科(CMP)、盛美上海(清洗(xǐ))等收入增长(zhǎng)。

 

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